CARACTERIZAÇÃO ÓPTICA E QUÍMICA DE FILMES FINOS DE TiO2 DOPADO COM PRATA DEPOSITADO SOBRE VIDRO

Autores

  • Caroliny Fernandes de Carvalho
  • Danilo Roque Huanca

DOI:

https://doi.org/10.29327/1386870.6-248

Palavras-chave:

Dióxido de titânio, Egap, TiO2, semicondutor, prata

Resumo

Filmes finos de TiO2 dopados com Ag foram depositados em substrato de vidro a fim de aprimorar o efeito fotocatalítico do TiO2 para sua aplicação em diversas áreas. Com o MEV, foi observado a composição química e estrutural dos filmes finos. Suas espessuras variam entre 0,003 e 0,057 mm, sendo a amostra de maior espessura a X1. Também foi observado a presença de defeitos na superfície, provavelmente devido ao rápido processo de calcinação que levou erupções nos filmes. A análise óptica mostrou a possível formação de anatase, devido aos valores de Egap obtidos (Tabela 2) que batem com o valor encontrado na literatura de 3,2 eV (Litter, 1999), apesar que esse Egap diminuiu na presença das nanopartículas, visto que menores valores de Egap foram medidos para o caso das amostras com maior dopagem com Ag. As amostras calcinadas à temperatura de 450°C também mostraram uma pequena diminuição do Egap comparadas às que foram calcinadas à 350°C. Isso pode ter ocorrido pela a reestruturação cristalina, causada pelo aquecimento das amostras, levando a filmes mais compactos com menor transmitância. Já a análise DRX mostrou que embora a amostra tenha sido recozida por meia hora a 350°C ou 450°C, essas condições não foram suficientes para a formação da fase cristalina, razão pela qual apenas os picos da prata foram observados.

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Publicado

19.06.2024