CÁLCULO DA ESPESSURA E ÍNDICE DE REFRAÇÃO EFETIVO DE ESTRUTURAS BASEADAS EM SILÍCIO POR MEIO DO AJUSTE DO ESPECTRO DE REFLETÂNCIA
DOI:
https://doi.org/10.29327/1386870.6-246Palavras-chave:
Filmes finos, Índice de refração, Caracterização óptica, Silício poroso, Óxido de silícioResumo
A partir dos resultados obtidos após a análise das várias amostras, observamos que o processo do ajuste de curva para quantificar as propriedades ópticas e estruturais é uma ótima alternativa aos métodos destrutivos. Nessa tarefa, para sistemas compostos por várias fases, o método de Bruggeman tem se mostrado ser uma ótima ajuda. Contudo, a qualidade do ajuste das curvas depende das características das amostras, bem como da referência usada para realizar as medidas. Nesse sentido, é necessário tomar cuidado na interpretação dos resultados de modo a não confundir esses artefatos como parte da amostra.
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Publicado
19.06.2024
Edição
Seção
Física, Matemática e Química